難免會有鍍壞，不良品的退鍍配方大全
衆所皆知，一個電鍍廠不良品的多少決定了這個廠是赢利還是虧損的最重要指标。但“人非聖賢，孰人無過”，再高明的電鍍管理團隊都無法100%杜絕不良品的産生，所以針對少量不良品的返鍍與退鍍是每個從業人員都要面對的問題。今生我們平台就同大家分享下如何更節約成本；更少産生報廢品的退鍍，返鍍補救方法。
一． 不良鍍銀層的退鍍工藝與配方
氨水 100 ml／L
雙氧水 50 —100 ml／L
溫 度 室 溫
二． 不良槍色，無鎳槍，白銅錫鍍層的退鍍
氫氟酸 50 —80 ml／L
雙氧水 30 —50 ml／L
溫 度 室 溫
三．不良鍍鎳層的退鍍
1. 鋼鐵基材電鍍鎳層
1）鋼鐵基材如果鎳層下面無銅層則宜選擇化學法退除。具體方法是：将欲退鍍的零件放入含有防染鹽70～80g／L、氰化鈉70～80g／L的溶液中，升溫至70～80℃，浸泡直至退淨為止。要控制溫度不宜過高，否則氰化鈉易分解造成退速下降。
2）鋼鐵基材鎳下有銅層可采用電解退除方法較安全，可在含有硝酸铵l80g／L、酒石酸鉀鈉20g／L、硫氰酸鉀l～2g／L的溶液中，把退鍍件接為陽極。在30～50℃下，在電流密度于10～15A／dm2條件退除。陰極采用不鏽鋼闆
2. 鋅合金及銅合金工件上鎳層的退鍍
間硝基苯磺酸鈉60～70g/L，
硫酸100～120g/L，
硫氰酸鉀0.5～1g/L，
溫度80～90，
退鍍後表面為深棕色時，取出後充分清洗，再除棕色膜（氰化鈉 30g/L，氫氧化鈉 30g/L，室溫）。
3.化學鎳層的退鍍
配方1：濃HNO3，20～60℃。本液成本低，速度快（30～40μm/h），毒性小。适用尺寸精密要求不高的工件退鍍，防止帶入水、退鍍完畢迅速入鹽酸中清洗後再用流動水清洗。
配方2：HNO3（1∶1），20～40℃，退速快（10μm/5～6min），适用不鏽鋼。
配方3：濃HNO3 1000ml/L，NaCl 20g/L，尿素10g/L（抑制NOX氣體的生成），六次甲基四胺5g/L，室溫，退速20μm/h。
4.鍍鎳層的電解退鍍方法
配方為：硝酸铵 100g/L，氨三乙酸15g/L，檸檬酸20g/L，硫脲2g/L，葡萄糖酸鈉1g/L，十二烷基硫酸鈉0.1g/L，pH=4，室溫，DA=2～10A/dm2，陰極10#鋼，陰極面積SK∶陽極面積SA=2-3∶1。
四．不良鍍鉻層退除
一般産品可用鹽酸直接退去鍍鉻層。為縮短零件與鹽酸接觸的時間，應先把鹽酸加溫至40~50℃。複雜零件必須用電解法退除鍍鉻層，其最大的優點是工藝簡單，速度快，不腐蝕基體。
電解退鉻層方法：氫氧化鈉70~100g/L，三乙醇胺1~2mL/L，室溫，電流2~3A/dm2。
五．不合格銅鍍層，仿金層，青銅層的退鍍
1.鋼鐵基體上（化學法）配方
鉻酐400g/L
硫酸50g/L
水 加至1L
描述 本配方适用于化學法退除鋼鐵基體上的不良銅層。
2.鋅合金基體
硫化鉀100-200g/L
溫度60-90度
空氣攪拌
六．金屬錫鍍層去除劑
鹽酸(37%) 80mL
硫酸銅 150g
三氯化鐵 150g
水 加至 1 000mL
注：将各組分溶于水，攪勻即成。本劑用于零件或制品表面不合格或在使用過程中受損壞要進行返修時使用。适用于除去銅基材料上錫鍍層，可在室溫進行。
七．常用塑料制品鍍層退除工藝
鹽酸 100mL/L
雙氧水(30%) 80-100mL/L
水 加至1L
溫度≤80度，處理時間以退淨為止。
八．鍍鋅層的退除（化學法）
工藝I：
鹽酸 200 mL/L
溫度30 ~ 50 °C
注：本配方為較常用方法
工藝2 ：
氫氧化鈉 200- 300g/L
亞硝酸鈉 1OO - 200g/L
水 加至1L
注： 本劑用化學法退除彈性零件、高強度零件以及質量要求高的零件表面上的不合格鋅鍍層。處理溫度為100℃，時間以退淨為止。
九．鋅合金上銅，鎳，槍等多鍍層一次性退到基體方法
配方：
硫酸375 mL/L
硝酸125 mL/L
退鍍劑500 mL/L
時間 2~4min。
注：1）.退鍍劑配制方法如下：熱水中加入丁炔二醇2000g，溶解成25L丁炔二醇水溶液，攪拌溶解即可，其中丁炔二醇質量濃度為80g/L。
2）.配制退鍍液時，先将硫酸倒入容器，在容器外通水冷卻，倒入硝酸，待溫度降低後，滴加退鍍劑(速度要慢，逐滴加入，防止沸騰)。
十．不合格鍍鉛層的去除（化學法）
醋酸(96% - 980-/0) 1L
過氧化氫(30%) 30 - lOOmL
鍍層質量不符合要求時 , 需退除重新電鍍。鍍層的退除工藝要求嚴格 , 當工藝配方選擇不當 , 操作稍有疏忽 , 就可能損傷基體 , 造成工件報廢。以上這些工藝是我們團隊經過多年現場驗證過的 , 對基體較少腐蝕, 工藝簡單、易操作、能耗低、有利于清潔生産。随着行業不斷向前與電鍍工藝的疊代更新，我們将會收集更多更好鍍層退除工藝将在以後的資訊中發表，敬請關注，謝謝！